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Mask Spin Cleaning System
반도체 노광 공정에 사용되는 Photo Mask를 세정하기 위한 장비로 화학약품과 서보모터를 이용하여 식각 공정, 세정공정, 건조공정 등의 연속적인 공정이 수행되며 주문자의 요구사항과 공간, 예산을 반영하여 제작 공급합니다.
| Item | Specifications |
|---|---|
| Main Body | Ivory Press PVC 8t |
| Spin Rotation Speed | 100 ~ 1,500 rpm |
| Process Chamber | LDPP, SUS |
| Control System | Programmable Controller & S/W Control &PLC |
| Dimension | User Made |
| DI Rinse | Spray Arm & 상/하부 Nozzle, Hot DI System |
| N2 Supply | 상/하부 Nozzle |
| Surfactant | Brush Arm & DI Supply |
| Option | Acid Etching System, Chemical Supply System |
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